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圓派科學(xué)儀器（上海）有限公司
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閱讀：4發(fā)布時間：2025-5-6
共焦與干涉的不期而遇
精準(zhǔn)的表面分析是在眾多生產(chǎn)和研發(fā)過程中的因素，以此來確保材料和組件的性能優(yōu)化。在晶片生產(chǎn)過程中，制造商需要對晶片的層厚和臨界尺寸進(jìn)行評估；在汽車和航空航天行業(yè)，組件的表面粗糙度是決定組件性能至關(guān)重要的因素。
然而，樣品表面錯綜復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，不同的高傾斜度，會要求橫向分辨率達(dá)到亞微米，垂直方向分辨率甚至達(dá)到納米級。如何獲取高質(zhì)量的二維圖像，執(zhí)行復(fù)雜的三維表面分析，得出精準(zhǔn)的分析結(jié)果？在徠卡，共焦和干涉的一場美麗邂逅，將多功能快速 3D 表面測量技術(shù)推上了一個新的高峰。
測量光柵的周期，高度 放大倍數(shù)：1000x
光柵周期曲線圖
（樣品來源：北京大學(xué)微電子工藝實(shí)驗(yàn)室）
硅結(jié)構(gòu)器件 硅墻 放大倍數(shù)：2100x
用不同顏色展現(xiàn)樣品表面的高低形貌
（樣品來源：北京大學(xué)微電子工藝實(shí)驗(yàn)室）
半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)器件表面損傷觀察 放大倍數(shù)2100x
用不同顏色展現(xiàn)樣品表面的高低形貌
（樣品來源：半導(dǎo)體研究所）
觀察光柵 放大倍數(shù)：2100x
用不同顏色展現(xiàn)樣品表面的高低形貌
（樣品來源：半導(dǎo)體研究所）
硅片表面結(jié)構(gòu)3D圖像 放大倍數(shù)2100x
用不同顏色展現(xiàn)樣品表面的高低形貌
金屬材料3D形貌，奧氏體 放大倍數(shù)：1000x
真彩共聚焦模式下拍攝的奧氏體
感謝北京大學(xué)微電子工藝實(shí)驗(yàn)室與半導(dǎo)體研究所提供的檢測樣品及測試環(huán)境。希望立足于此，將來為中國科學(xué)研究及精密測量領(lǐng)域提供更優(yōu)質(zhì)的設(shè)備與服務(wù)。
Leica DCM8-全面了解3D表面測量學(xué)
徠卡 DCM8
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