氮化物 TiN/Si3N4陶瓷復合材料 齊岳定制
摘要：利用直流反應磁控濺射法在Si3N4陶瓷基體上制備了TiN導電薄膜。采用X射線衍射儀(XRD)、掃描電鏡(SEM)和電子能譜(EDS)對薄膜的物相組成以及表面形貌進行分析,表明TiN薄膜均勻,且與基體有較強的附著力。采用SZ82型四探針測試儀對薄膜進行了方阻隨厚度變化的分析,表明薄膜的厚度對薄膜的電性能有很大的影響。
氮化物 TiN/Si3N4陶瓷復合材料 齊岳定制
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