智慧城市網
技術文章
影響免疫電鏡的一些因素
閱讀：1276 發布時間：2015-8-12（一） 原理
免疫電鏡技術是免疫化學技術與電鏡技術結合的產物，是在超微結構水平研究和觀察抗原、抗體結合定位的一種方法學。它主要分為兩大類：一類是免疫凝集電鏡技術，即采用抗原抗體凝集反應后，再經負染色直接在電鏡下觀察；另一類則是免疫電鏡定位技術。該項技術是利用帶有特殊標記的抗體與相應抗原相結合，在電子顯微鏡下觀察，由于標準物形成一定的電子密度而指示出相應抗原所在的部位。免疫電鏡的應用，使得抗原和抗體定位的研究進入到亞細胞的水平。
（二）影響免疫電鏡的一些因素
1.標記物
用于電鏡觀察的標記物有三類：一類是電子密度致密的標記物，如鐵蛋白、辣根過氧化物酶等。另一類則是放射性同位素，如135I、35S、32P、14C、3H等，第三類則是有*形狀的標記物，如血蘭蛋白、噬菌體等。
對標記物的要求是：具有特定的形狀、不影響抗原抗體復合物的特性與形狀。目前用于免疫電鏡的標記物主要是鐵蛋白和HRP.兩者各有其優點，鐵蛋白電子密度致密。觀察時反差大，優于酶標記，但鐵蛋白分子量大（460 000），穿透能力差，所以適于細胞表面抗原的定位，另外鐵蛋白的標記過程比較復雜。HRP分子量小（40 000），穿透力強，有利于標記抗體進入細胞內，適于細胞內的抗原定位。
2.固定劑
固定是免疫電鏡較關鍵的一步，免疫電鏡中的固定與一般超薄切片中的固定的不同之點在于既考慮保存細胞的超微結構，又要考慮到抗原的失活性問題。